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台積電公佈2nm先進製程：終結FinFET電晶體，功耗降低30%
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6月17日早間消息，台積電在今日舉辦的2022技術論壇上，首度推出下一代先進製程N2，也就是2nm。技術指標方面，台積電披露，N2相較於N3，在相同功耗下，速度快10~15%；相同速度下，功耗降低25~30%，開啟高效能新紀元。就縱向對比來看，2nm之於3nm的提升，似乎不如3nm之於5nm，包括但不限於性能、功耗、密度等所有核心參數。https://cdn0.techbang.com/system/images/639137/original/155e32990ea1a4a978a78af219db68d0.jpg?1655426625在微觀結構上，N2採用奈米片電晶體（Nanosheet），取代FinFET（鰭式場效應電晶體），外界普遍認為，奈米片電晶體就是台積電版的GAAFET（環繞柵極電晶體）。台積電還表示，N2不僅有面向行動處理器的標準工藝，還會有針對高性能運算和小晶片（Chiplet）的整合方案。https://cdn2.techbang.com/system/images/639138/original/06700c4fc87160e2c503e197f3bd6f28.jpg?1655426626時間方面，預計N2將於2025年量產。另外，根據台積電最新技術路線圖，第一代3nm（N3）定於下半年量產，3nm也會比較長壽，後續還有N3E、N3P和N3X。https://cdn2.techbang.com/system/images/639139/original/ab4a7205b2895dafe50faf5f4253132f.jpg?1655426626
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